|
微納米級(jí)頭孢混懸液膠體磨為立式分體結(jié)構(gòu)，精密的零部件配合運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn)，運(yùn)行噪音在73DB以下。同時(shí)采用德國博格曼雙端面機(jī)械密封，并通冷媒對(duì)密封部分進(jìn)行冷卻，把泄露概率降到低，保證機(jī)器連續(xù)24小時(shí)不停機(jī)運(yùn)行。
查看詳細(xì)介紹
|
超微礦物混懸液研磨分散機(jī)不斷地從徑向高速射出，在物料本身和容器壁的阻力下改變流向，與此同時(shí)在轉(zhuǎn)子區(qū)產(chǎn)生的上、下軸向抽吸力的作用下，又形成上、下兩股強(qiáng)烈的翻動(dòng)紊流。物料經(jīng)過數(shù)次循環(huán)，完成分散過程。
查看詳細(xì)介紹
|
羥丙甲基纖維素溶液分散均質(zhì)機(jī)用氫氧化鈉處理纖維素得堿纖維素，然后再精制得成品，即是羥甲基纖維素鈉、溶解性在熱水和冷水中均好。水溶液有粘性。粘度和溶解度與取代程度有關(guān)。
查看詳細(xì)介紹
|
GMD2000超細(xì)頭孢混懸液高速研磨分散機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu)，精密的零部件配合運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn)，運(yùn)行噪音在73DB以下。同時(shí)采用德國博格曼雙端面機(jī)械密封，并通冷媒對(duì)密封部分進(jìn)行冷卻，把泄露概率降到低，保證機(jī)器連續(xù)24小時(shí)不停機(jī)運(yùn)行。
查看詳細(xì)介紹
|
GMD2000硫酸頭孢喹諾混懸液研磨分散機(jī)價(jià)格系列的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
查看詳細(xì)介紹
|
人參磨漿機(jī)，人參醫(yī)藥混懸液膠體磨價(jià)格在摩擦狀態(tài)下工作，也就被稱做濕磨。在錐形轉(zhuǎn)子和定子之間有一個(gè)寬的入口間隙和窄的出口間隙，在工作中，分散頭偏心運(yùn)轉(zhuǎn)使溶液出現(xiàn)渦流，因此可以達(dá)到更好的研磨分散的效果。GM2000膠磨機(jī)整機(jī)采用幾何機(jī)構(gòu)的研磨定轉(zhuǎn)子，的表面處理和優(yōu)質(zhì)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種需求。
查看詳細(xì)介紹
|
GMD2000硫酸頭孢喹諾混懸液研磨分散機(jī)系列的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
查看詳細(xì)介紹
|
GMD2000系列高剪切高速吡喹酮混懸液研磨分散機(jī)具有非常高的剪切速度和剪切力，粒徑微米級(jí)0.2-2μm，可以確保高速分散乳化的穩(wěn)定性。該設(shè)備可以適用于各種分散乳化工藝，也可用于生產(chǎn)包括對(duì)乳狀液,懸浮液和膠體的均質(zhì)混合?；鞈乙悍稚⑷榛瘷C(jī)由定/轉(zhuǎn)子系統(tǒng)生的剪切力使得溶質(zhì)轉(zhuǎn)移速度增加，從而使單一分子和宏觀分子媒介的分解加速。
查看詳細(xì)介紹
|
||
|
||
 |